[发明专利]阴离子插层的双金属氢氧化物吸附剂、其制备方法及应用在审
申请号: | 202110071285.8 | 申请日: | 2021-01-19 |
公开(公告)号: | CN112871128A | 公开(公告)日: | 2021-06-01 |
发明(设计)人: | 阮长平;钟超然;沈星灿 | 申请(专利权)人: | 广西师范大学 |
主分类号: | B01J20/08 | 分类号: | B01J20/08;B01J20/30;C02F1/28;C02F101/20 |
代理公司: | 南宁新途专利代理事务所(普通合伙) 45119 | 代理人: | 但玉梅 |
地址: | 541004 广西壮*** | 国省代码: | 广西;45 |
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摘要: |
本发明提供阴离子插层的双金属氢氧化物吸附剂、其制备方法及应用,属于重金属吸附材料技术领域。本发明的制备方法包括以下步骤:通过二价金属镁盐、三价金属铝盐以及尿素进行水热反应,得到前驱体MgAl‑CO |
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搜索关键词: | 阴离子 双金属 氢氧化物 吸附剂 制备 方法 应用 | ||
【主权项】:
暂无信息
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