[发明专利]阴离子插层的双金属氢氧化物吸附剂、其制备方法及应用在审

专利信息
申请号: 202110071285.8 申请日: 2021-01-19
公开(公告)号: CN112871128A 公开(公告)日: 2021-06-01
发明(设计)人: 阮长平;钟超然;沈星灿 申请(专利权)人: 广西师范大学
主分类号: B01J20/08 分类号: B01J20/08;B01J20/30;C02F1/28;C02F101/20
代理公司: 南宁新途专利代理事务所(普通合伙) 45119 代理人: 但玉梅
地址: 541004 广西壮*** 国省代码: 广西;45
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摘要: 发明提供阴离子插层的双金属氢氧化物吸附剂、其制备方法及应用,属于重金属吸附材料技术领域。本发明的制备方法包括以下步骤:通过二价金属镁盐、三价金属铝盐以及尿素进行水热反应,得到前驱体MgAl‑CO3‑LDH;前驱体加入硝酸和硝酸钠,得到样品MgAl‑NO3‑LDH;MgAl‑NO3‑LDH和植酸钠盐水合物水热反应,得到阴离子插层的双金属氢氧化物MgAl‑PA‑LDH。本发明制备的MgAl‑PA‑LDH与其他螯合剂相比,具有与金属离子更强的螯合作用和更多的吸附位点,对含镉离子的污水处理效果十分优异。本发明通过离子交换法和水热反应进行制备,所得产品在酸性污水中使用时的稳定性更好。
搜索关键词: 阴离子 双金属 氢氧化物 吸附剂 制备 方法 应用
【主权项】:
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