[发明专利]一种光还原降解组合物及其制备方法和应用有效
| 申请号： | 202110074802.7 | 申请日： | 2021-01-20 |
| 公开（公告）号： | CN112876837B | 公开（公告）日： | 2021-11-23 |
| 发明（设计）人： | 丁明明;王昭丁;段芳红;陈浩东;李子芬;谭鸿;傅强 | 申请（专利权）人： | 四川大学 |
| 主分类号： | C08L75/04 | 分类号： | C08L75/04;C08L67/00;C08L69/00;C08L75/02;C08L77/04;C08L71/00;C08K5/375;A61K47/34;A61K49/00 |
| 代理公司： | 成都点睛专利代理事务所(普通合伙) 51232 | 代理人： | 刘文娟 |
| 地址： | 610065 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明涉及智能材料技术领域，具体涉及一种光还原降解组合物及其制备方法和应用。本发明提供一种光还原降解组合物，其特征在于，所述光还原降解组合物包括还原敏感高分子和改性还原剂，所述改性还原剂为还原剂与含光敏感基团的物质反应得到的物质；所述光还原降解组合物在外部光刺激的作用下由于光敏感基团的脱除原位产生还原剂，该还原剂进一步与还原敏感高分子发生反应使得所述还原敏感高分子实现了还原降解。所得光还原降解组合物在正常还原性生理环境中能够响应细胞内水平的GSH实现还原敏感高分子的还原降解；而在缺乏还原剂的情况下，该光还原降解组合物可以在光照条件原位产生还原剂分子，同样能够实现还原敏感高分子的还原降解。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光还原 降解 组合 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
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