[发明专利]半导体器件及其制造方法在审

专利信息
申请号: 202110078475.2 申请日: 2021-01-20
公开(公告)号: CN113257805A 公开(公告)日: 2021-08-13
发明(设计)人: 金柱然;裴德汉;金辰昱;朴柱勋;严命允;李寅烈 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L29/06
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 李敬文
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 一种半导体器件包括:有源图案,沿第一水平方向在衬底上延伸;栅电极,沿第二水平方向跨有源图案延伸,并且包括第一部分和沿竖直方向从第一部分向上突起的第二部分;覆盖图案,沿第二水平方向在栅电极上延伸;以及栅极接触部,设置在栅电极的第二部分上,与有源图案重叠并且穿透覆盖图案以连接到栅电极。
搜索关键词: 半导体器件 及其 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
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