[发明专利]一种半导体外延结构及其制作方法、LED芯片在审

专利信息
申请号: 202110079258.5 申请日: 2021-01-21
公开(公告)号: CN112768577A 公开(公告)日: 2021-05-07
发明(设计)人: 林志伟;陈凯轩;蔡建九;卓祥景;程伟 申请(专利权)人: 厦门乾照光电股份有限公司
主分类号: H01L33/06 分类号: H01L33/06;H01L33/12;H01L33/32;H01L33/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 361101 福建省厦门市厦门火*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明提供了一种半导体外延结构及其制作方法、LED芯片,包括在所述衬底表面依次堆叠的第一型半导体层、有源区、第二型半导体层,所述有源区包括n个沿第一方向依次层叠的量子层,各所述量子层包括势垒层和势阱层,且至少在一相邻的两个量子层之间设有应力释放层,以解决因势阱层和势垒层之间、以及势阱层与第一型半导体层之间所同时存在的晶格失配问题,从而避免因累加的晶格失配所产生的应力对电子和空穴在空间的复合效率的影响。
搜索关键词: 一种 半导体 外延 结构 及其 制作方法 led 芯片
【主权项】:
暂无信息
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