[发明专利]一种光刻胶层的形貌检测方法及系统有效
| 申请号： | 202110083384.8 | 申请日： | 2021-01-21 |
| 公开（公告）号： | CN112925172B | 公开（公告）日： | 2022-05-17 |
| 发明（设计）人： | 陈庆煌;柯思羽;武松;刘志成 | 申请（专利权）人： | 泉芯集成电路制造（济南）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/66 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 骆宗力 |
| 地址： | 250101 山东省济南市*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种光刻胶层的形貌检测方法及系统，包括：提供待测样品，所述待测样品包括衬底基板及位于所述衬底基板一侧上的光刻胶层，所述光刻胶层包括待检测区；对所述光刻胶层的待检测区进行冷脆处理；沿裂片线对所述待测样品进行裂片，裸露所述光刻胶层在所述待测区的截面，其中，所述待检测区位于所述裂片线的延伸路径上；对所述光刻胶层在所述待测区的截面进行形貌检测。由上述内容可知，本发明提供的技术方案，在对待测样品进行裂片前，对光刻胶层的待检测区进行了冷脆处理，进而能够降低光刻胶层的待检测区处的截面在裂片时发生形变的情况，保证对光刻胶层在待检测区的截面处形貌检测的准确性高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 形貌 检测 方法 系统 | ||
【主权项】：
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