[发明专利]一种X射线曝光装置有效
申请号: | 202110084626.5 | 申请日: | 2021-01-21 |
公开(公告)号: | CN112859539B | 公开(公告)日: | 2022-11-11 |
发明(设计)人: | 李以贵;范若欣;赖丽燕;王欢;张成功 | 申请(专利权)人: | 上海应用技术大学 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 | 代理人: | 杨元焱 |
地址: | 201418 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及一种X射线曝光装置,包括套筒(1)和与套筒(1)连接的移动工作台(2),所述的套筒(1)内设置有掩模版(3)和光刻胶基板(4),套筒(1)上设有入光口(11),X射线通过入光口(11)进入套筒(1)内。与现有技术相比,本发明不仅可以有效保护了光刻掩模版,而且此装置可以有效提高光刻的效率以及达到高精度的光刻效果,做到批量生产。 | ||
搜索关键词: | 一种 射线 曝光 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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