[发明专利]一种含双酯结构的光致酸产生剂的光刻胶及其制备方法在审
| 申请号： | 202110089856.0 | 申请日： | 2021-01-22 |
| 公开（公告）号： | CN112764314A | 公开（公告）日： | 2021-05-07 |
| 发明（设计）人： | 齐国强;顾大公;岳力挽;李珊珊;马潇;毛智彪;许从应 | 申请（专利权）人： | 宁波南大光电材料有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004 |
| 代理公司： | 深圳盛德大业知识产权代理事务所(普通合伙) 44333 | 代理人： | 左光明 |
| 地址： | 315800 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明实施例公开了一种含双酯结构的光致酸产生剂的光刻胶及其制备方法，该光刻胶包括以下原料：0.1‑10重量组分的含双酯结构的光致酸产生剂、10‑30重量组分的成膜树脂、0.1‑5重量组分的酸扩散抑制剂以及55‑89.8重量组分的有机溶剂A。本发明实施例提供的所述的含双酯结构的光致酸产生剂的光刻胶通过添加的含双酯结构的光致酸产生剂使得光刻胶在进行光刻工艺时，光刻胶中的光致酸产生剂可产生有效的可控大体积酸，进而提升光刻胶的分辨率，减小了制作的电路的线宽和粗糙度，提高树脂的黏附性，改善光刻胶的整体性能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 含双酯 结构 光致酸 产生 光刻 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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