[发明专利]在版图设计窗口下自动选择设计层的方法及系统在审

专利信息
申请号: 202110089986.4 申请日: 2021-01-22
公开(公告)号: CN112765914A 公开(公告)日: 2021-05-07
发明(设计)人: 曹云 申请(专利权)人: 上海华虹宏力半导体制造有限公司
主分类号: G06F30/31 分类号: G06F30/31;G06F16/25
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 曹廷廷
地址: 201203 上海市浦东*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种在版图设计窗口下自动选择设计层的方法及系统,包括:在版图设计窗口下,打开一版图,所述版图中包括若干设计层,选中所述版图中的一设计层;读取选中的所述设计层的层信息,并利用选中的所述设计层的层信息在数据库进行搜索及对比,以在所述数据库中找到与选中的所述设计层的层信息相同的设计层,所述数据库中存储有所有设计层的层信息;利用找到的设计层将在所述版图设计窗口下选中的设计层设置为可操作的设计层。本发明提高了使用者的工作效率,操作便捷。
搜索关键词: 版图 设计 窗口 自动 选择 方法 系统
【主权项】:
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