[发明专利]二维全斯托克斯偏振成像元件及其制备方法在审
| 申请号： | 202110097901.7 | 申请日： | 2021-01-25 |
| 公开（公告）号： | CN112882146A | 公开（公告）日： | 2021-06-01 |
| 发明（设计）人： | 董延更;胡敬佩;张冲;曾爱军;黄惠杰 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30 |
| 代理公司： | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人： | 张宁展 |
| 地址： | 201800 *** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种二维全斯托克斯偏振成像元件，属于光学器件，可以用来实现实时偏振成像。由透光基底和位于透光基底上的旋转对称介质结构层构成。其中的介质结构层由四个不同取向的线性光栅和两个不同旋转方向的对称结构阵列构成。该元件可以通过电子束曝光和显影技术以及离子束刻蚀等工艺流程制得。该全斯托克斯偏振成像元件性能优异，在1.54μm波段，对线性偏振光，透过率可以超过92.5％，消光比达到33.57db；圆偏振二色性超过92％。对圆偏振光，偏振透过率大于95％，圆偏振二色性达到94.3％，消光比大于45:1。同时其结构简单，性能优异，易于制作，在光学传感、光学成像等领域具有很大的应用价值。 | ||
| 搜索关键词： | 二维 斯托 偏振 成像 元件 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海光学精密机械研究所，未经中国科学院上海光学精密机械研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110097901.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种自动盖章装置、用于重复盖章的方法、应用
- 下一篇：多层复合匹克球拍
