[发明专利]一种化学发光清洗缓冲液在审
| 申请号： | 202110103673.X | 申请日： | 2021-01-26 |
| 公开（公告）号： | CN112924438A | 公开（公告）日： | 2021-06-08 |
| 发明（设计）人： | 方啟龙;胡利民 | 申请（专利权）人： | 金华市鑫科医疗器械有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/76 | 分类号： | G01N21/76;G01N33/53;B08B3/08 |
| 代理公司： | 北京科家知识产权代理事务所(普通合伙) 11427 | 代理人： | 宫建华 |
| 地址： | 321016 *** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种化学发光清洗缓冲液，含有50‑150g/L的氯化钠、1‑10g/L的表面活性剂、10‑30g/L的缓冲剂、0.5‑5g/L的抗菌剂、0.5‑10g/L的助洗剂。本发明增强检测结果的稳定性；本发明含有表面活性剂，因此能够改善反应体系的表面张力，增强溶液的分散性，增强检测结果的稳定性以及检测后降低反应物质的残留；本发明含有助洗剂，因此进一步提高检测结果的稳定性，进一步降低反应物质在反应体系中的残留，避免造成交叉污染；本发明含有抗菌剂，将抗菌剂替代原装清洗缓冲液中的叠氮化钠，使清洗缓冲液保存时间更长、使用更安全、更环保。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 发光 清洗 缓冲液 | ||
【主权项】：
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