[发明专利]基于V坑调控的橙黄光LED器件及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202110107449.8 申请日: 2021-01-26
公开(公告)号: CN112786743B 公开(公告)日: 2022-04-01
发明(设计)人: 姚威振;汪连山;杨少延;刘祥林;王占国 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;H01L33/06;H01L33/12;H01L33/24
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 任岩
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本公开提供一种基于V坑调控的橙黄光LED器件及其制备方法,该制备方法包括:在衬底上制备GaN缓冲层;在所述GaN缓冲层上生长非故意掺杂氮化镓层和n型掺杂GaN层;在n型掺杂GaN层上生长低铟组分的InGaN预应变层;在所述InGaN预应变层上生长高铟组分的InGaN/GaN多量子阱材料层;在InGaN/GaN多量子阱材料层上制备V坑结构,形成具有V坑结构阵列的InGaN/GaN多量子阱层;在具有V坑结构阵列的InGaN/GaN多量子阱层上制备p型掺杂GaN层;在p型掺杂GaN层材料表面生长一层氧化铟锡透明导电膜;以及分别在ITO透明导电膜和n型掺杂GaN层的台面上溅射金属形成欧姆接触的电极,完成基于V坑调控的橙黄光LED器件的制备。
搜索关键词: 基于 调控 橙黄 led 器件 及其 制备 方法
【主权项】:
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