[发明专利]一种两段式吸附光罩及其吸附方法在审

专利信息
申请号: 202110108450.2 申请日: 2021-01-27
公开(公告)号: CN112838184A 公开(公告)日: 2021-05-25
发明(设计)人: 金华君;吴聪原 申请(专利权)人: 福建华佳彩有限公司
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;C23C14/04
代理公司: 福州市博深专利事务所(普通合伙) 35214 代理人: 段惠存
地址: 351100 福*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明公开了一种两段式吸附光罩及其吸附方法,包括掩膜框、第一掩膜板、第二掩膜板、基板和磁板,其中,第一掩膜板的受磁性大于第二掩膜板,第二掩膜板和第一掩膜板先后依次重叠且相互紧贴地固定在掩膜框的一面上,第一掩膜板远离第二掩膜板的一面设有基板,基板远离第一掩膜板的一侧设有磁板。第一掩膜板上的面板区域和第二掩膜板上的开口数量相同且位置一一对应重叠,面板区域能完全覆盖对应的开口且只与一个开口发生重叠。使用时,磁板先后吸附第一掩膜板和第二掩膜板,使二者贴附在基板上,消除掩膜板在贴附基板过程中由于自身的下垂和贴附压力等因素对贴附效果的影响,实现掩膜板在蒸镀过程与基板紧密平坦贴合,保证成膜的精准性。
搜索关键词: 一种 段式 吸附 及其 方法
【主权项】:
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