[发明专利]基于遗传算法的掩模侧壁角控制方法、系统、设备及介质有效
| 申请号： | 202110110769.9 | 申请日： | 2021-01-27 |
| 公开（公告）号： | CN112765893B | 公开（公告）日： | 2023-04-25 |
| 发明（设计）人： | 郝芸芸;叶甜春;韦亚一;王云;薛静 | 申请（专利权）人： | 广东省大湾区集成电路与系统应用研究院 |
| 主分类号： | G06F30/27 | 分类号： | G06F30/27;G06N3/126;G06F111/04 |
| 代理公司： | 华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 史治法 |
| 地址： | 510000 广东省广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于遗传算法的掩模侧壁角控制方法、系统、设备及介质，所述掩模侧壁角控制方法包括：在掩模主体图形边缘添加冗余图形；基于遗传算法调控所述冗余图形的添加方式，以确定目标冗余图形添加方式；其中，一组或多组所述目标冗余图形添加方式对应掩模侧壁角的角度。通过引入遗传算法，整个流程可快速，高效地确定一组、或几组目标冗余图形添加方式，其中，一组或多组所述目标冗余图形添加方式对应掩模侧壁角的角度，以实现对精细位置的侧壁角的角度的精准调节，满足光刻工程中特殊工艺对侧壁角的需求，仿真计算可以快速地挑选出比较符合要求的一组或几组冗余图形添加方式，节省人力、物力及财力。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 遗传 算法 侧壁 控制 方法 系统 设备 介质 | ||
【主权项】：
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