[发明专利]辐射源以及使用该辐射源的气体传感器在审
| 申请号： | 202110112323.X | 申请日： | 2021-01-27 |
| 公开（公告）号： | CN113252570A | 公开（公告）日： | 2021-08-13 |
| 发明（设计）人： | D·图姆波德;C·格拉策;S·库巴克基 | 申请（专利权）人： | 英飞凌科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/17 | 分类号： | G01N21/17;G01N21/01;G01N21/31 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 赵尤斌 |
| 地址： | 德国诺伊*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 一种用于将窄带电磁辐射(11)倾斜地发射到腔体(12)中的辐射源(10)，包括：发射器结构(14)，该发射器结构(14)具有用于发射窄带电磁辐射(11)的主辐射发射区域(14‑1)，其中发射器结构(14)光学耦合到腔体(12)；以及层元件(18)，该层元件(18)耦合到发射器结构(14)的主辐射发射区域(14‑1)，其中该层元件(18)包括辐射偏转(畸变)结构(20)，该辐射偏转(畸变)结构被配置为用于相对于发射器结构(14)的主辐射发射区域(14‑1)的表面法线偏转发射器结构(14)的辐射发射特征。 | ||
| 搜索关键词： | 辐射源 以及 使用 气体 传感器 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于英飞凌科技股份有限公司，未经英飞凌科技股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110112323.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：表面保护薄膜
- 下一篇：使用多种类型的光进行视觉检查的系统和方法
