[发明专利]一种基于喷墨打印和化学沉积的织物电路制作方法在审
| 申请号： | 202110114935.2 | 申请日： | 2021-01-28 |
| 公开（公告）号： | CN112954908A | 公开（公告）日： | 2021-06-11 |
| 发明（设计）人： | 郭华 | 申请（专利权）人： | 上海电子信息职业技术学院 |
| 主分类号： | H05K3/18 | 分类号： | H05K3/18;H05K1/03;C23C18/40 |
| 代理公司： | 苏州中合知识产权代理事务所(普通合伙) 32266 | 代理人： | 李斌 |
| 地址： | 201400 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： |
本发明提供一种基于喷墨打印和化学沉积的织物电路制作方法，包括如下材料：化学材料：聚(4‑乙烯基吡啶)(P4VP，Mw～60，000)、1，4‑二氧六环(CH |
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| 搜索关键词： | 一种 基于 喷墨 打印 化学 沉积 织物 电路 制作方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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