[发明专利]一种高导电A位高熵纳米金属氧化物及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202110115158.3 申请日: 2021-01-28
公开(公告)号: CN113023777B 公开(公告)日: 2022-04-12
发明(设计)人: 张玲洁;蔡伟炜;暴宁钟 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: C01G31/00 分类号: C01G31/00;C01G31/02;B82Y40/00;B82Y30/00
代理公司: 杭州中成专利事务所有限公司 33212 代理人: 周世骏
地址: 310058 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明涉及新材料领域旨在提供一种高导电A位高熵纳米金属氧化物及其制备方法。该金属氧化物的分子式为Gd0.4Er0.3La0.4Nd0.5Y0.4)(Zr0.7,Sn0.8,V0.5)O7;其外观呈粉体状,微观结构显示为边长4~12nm、厚度1~3nm的正方形纳米片。相对于现有的高熵氧化物,本发明的产品具有高导电的特点,能够在导电合金、电接触复合材料、导电复合材料、多功能生物基复合材料、导电/抗静电功能复合涂层等方面得到更好的应用。
搜索关键词: 一种 导电 位高熵 纳米 金属 氧化物 及其 制备 方法
【主权项】:
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