[发明专利]一种选择性释放优性对映异构体的透皮制剂渗透膜的制备及应用有效
| 申请号： | 202110116443.7 | 申请日： | 2021-01-28 |
| 公开（公告）号： | CN112972431B | 公开（公告）日： | 2022-10-28 |
| 发明（设计）人： | 门吉英;董程雅;师红星;韩圆睿;杨园园;王蕊欣 | 申请（专利权）人： | 中北大学 |
| 主分类号： | A61K9/70 | 分类号： | A61K9/70;A61K31/4422;A61K47/32;A61P9/12;C08F220/06;C08F222/38 |
| 代理公司： | 太原市科瑞达专利代理有限公司 14101 | 代理人： | 李富元 |
| 地址： | 030051 山*** | 国省代码： | 山西;14 |
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| 摘要： | 本发明涉及手性药物选择性释放优性对映异构体领域，一种选择性释放优性对映异构体的透皮制剂渗透膜制备方法，采用表面分子印迹技术制备手性药物氨氯地平的表面分子印迹膜，即透皮制剂渗透膜，该渗透膜对手性药物氨氯地平具有优良的选择释放性，选择性地允许优性对映异构体（S）‑氨氯地平渗透通过，是一种很好的选择性释放优性对映异构体的透皮制剂渗透膜。本发明还涉及通过该选择性释放优性对映异构体的透皮制剂渗透膜制备方法制备的透皮制剂渗透膜的应用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 选择性 释放 映异构体 制剂 渗透 制备 应用 | ||
【主权项】：
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