[发明专利]熔丝阵列布局图案以及相关设备、系统和方法在审
| 申请号： | 202110116920.X | 申请日： | 2021-01-28 |
| 公开（公告）号： | CN113380759A | 公开（公告）日： | 2021-09-10 |
| 发明（设计）人： | 褚炜路;王婧;梁智玮;R·斯里拉曼尼 | 申请（专利权）人： | 美光科技公司 |
| 主分类号： | H01L23/525 | 分类号： | H01L23/525;H01L27/105 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 王龙 |
| 地址： | 美国爱*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本申请案涉及熔丝阵列布局图案以及相关设备、系统和方法。揭示了与互锁晶体管活性区相关的系统、方法和设备。设备包括包含导电材料的栅极和包含掺杂半导体材料的活性材料。所述活性材料由所述栅极重叠的一部分具有至少大体上三角形形状。设备包含多个活性材料。每一活性材料包含锥形末端和多个栅极。所述多个活性材料布置成互锁模式，其中所述活性材料的至少一些锥形末端与所述锥形末端中的至少一些其它锥形末端互锁。所述多个栅极与所述多个活性材料的所述互锁的锥形末端重叠。 | ||
| 搜索关键词： | 阵列 布局 图案 以及 相关 设备 系统 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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