[发明专利]半导体光刻设备有效
| 申请号： | 202110118289.7 | 申请日： | 2021-01-28 |
| 公开（公告）号： | CN112925174B | 公开（公告）日： | 2022-03-22 |
| 发明（设计）人： | 余先勇 | 申请（专利权）人： | 长鑫存储技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 | 代理人： | 孙佳胤 |
| 地址： | 230601 安徽省合肥市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 该发明公开了一种半导体光刻设备，包括：光罩传输装置和与所述光罩传输装置相连的光罩夹持装置，所述光罩夹持装置用于承载光罩；光罩清洁喷气装置，所述光罩清洁喷气装置连接在所述光罩夹持装置上以用于向所述光罩上方喷射气体来防止颗粒物落在所述光罩表面。根据本发明实施例的半导体光刻设备，通过设置光罩清洁喷气装置，光罩清洁喷气装置能够从下向上喷射气体以防止颗粒物落在光罩表面，从而能够减小光罩的污染，提高光罩的使用率，进而也能够提高产品良率，降低成本。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 光刻 设备 | ||
【主权项】：
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