[发明专利]一种多层透明导电薄膜及其制备方法与应用有效

专利信息
申请号: 202110119993.4 申请日: 2021-01-28
公开(公告)号: CN112941464B 公开(公告)日: 2022-09-16
发明(设计)人: 宋安刚;霍方方;朱地;胡俊华;赵保峰;关海滨;徐丹;王树元 申请(专利权)人: 山东省科学院能源研究所
主分类号: C23C14/08 分类号: C23C14/08;C23C14/20;C23C14/35;C23C14/02
代理公司: 济南圣达知识产权代理有限公司 37221 代理人: 张晓鹏
地址: 250014 山*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明公开了一种多层透明导电薄膜及其制备方法与应用,以氩气为等离子气源,以氧气为反应气体,在衬底上依次溅射第一二氧化钛膜、铜膜和第二二氧化钛膜,其中,二氧化钛膜采用远源等离子体溅射技术反应溅射沉积,铜膜采用直流溅射法溅射沉积。是采用远源等离子体溅射技术在衬底上直流溅射沉积薄膜,通过控制反应溅射过程中的氧气流量和溅射功率,在相对较低的溅射功率和氧流量条件下,通过控制中间层铜薄膜的厚度来调控透明导电膜的光电性能。
搜索关键词: 一种 多层 透明 导电 薄膜 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
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