[发明专利]一种工业硅降铁除磷的方法有效

专利信息
申请号: 202110126691.X 申请日: 2021-01-29
公开(公告)号: CN112723358B 公开(公告)日: 2022-09-13
发明(设计)人: 伍继君;何乾;马文会;魏奎先;陈正杰;雷云;李绍元 申请(专利权)人: 昆明理工大学
主分类号: C01B33/037 分类号: C01B33/037
代理公司: 天津煜博知识产权代理事务所(普通合伙) 12246 代理人: 朱维
地址: 650093 云*** 国省代码: 云南;53
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摘要: 发明涉及一种工业硅降铁除磷的方法,属于冶金工业技术领域。本发明将工业硅细磨得到工业硅粉,工业硅粉置于酸溶液中搅拌反应除铁,清洗烘干得到低铁工业硅粉,低铁工业硅粉置于配有等离子体炬的真空感应炉内,真空条件下,感应加热工业硅粉至熔融态得到熔融硅,将电弧诱导的等离子体射流引导至熔融硅表面进行化学冶炼,等离子体射流搅动熔融硅产生高温点,使磷挥发从熔融硅中逸出得到低磷熔融硅,低磷熔融硅随炉冷却至室温得到硅锭,去除硅锭表面的浮渣,得到低磷工业硅。本发明方法的工艺、设备简单,操作方便,对原料的普适性高,除磷效果好。
搜索关键词: 一种 工业 硅降铁 方法
【主权项】:
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