[发明专利]一种脉冲式均匀薄膜快速气相沉积的装置与方法

摘要

本发明公开一种脉冲式均匀薄膜快速气相沉积的装置与方法，包括反应腔室、设在反应腔室一端的取样部以及反应腔室另一端的多个前驱体蒸汽注入单元；前驱体蒸汽注入单元包括前驱体蒸汽管路和惰性载气管路且二者汇合为主管路后伸入反应腔室、连通前驱体蒸汽管路的真空排空支路、连通惰性载气管路的惰性载气排空支路、位于反应腔室内且连在主管路端部的气体分布器、设在惰性载气管路上的流量控制器、设在各管路和支路上的阀门及连接前驱体蒸汽管路的储罐。本发明各前驱体蒸汽均可实现连续或间断脉冲式注入，且前驱体蒸汽浓度均可通过惰性载气进行稀释与调整；在保证薄膜沉积速度的同时可最大限度的节约反应前驱体，减少资源浪费，减少环境污染。