[发明专利]一种监测熔体液面位置的方法、系统及计算机存储介质在审
| 申请号： | 202110129542.9 | 申请日： | 2021-01-29 |
| 公开（公告）号： | CN112903060A | 公开（公告）日： | 2021-06-04 |
| 发明（设计）人： | 陈凡;张鹏举;张千千 | 申请（专利权）人： | 西安奕斯伟硅片技术有限公司;西安奕斯伟材料技术有限公司 |
| 主分类号： | G01F23/22 | 分类号： | G01F23/22 |
| 代理公司： | 西安维英格知识产权代理事务所(普通合伙) 61253 | 代理人： | 李斌栋;沈寒酉 |
| 地址： | 710065 陕西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明实施例公开了一种监测熔体液面位置的方法、系统及计算机存储介质；该方法应用于导流筒底部设置有凹面镜的拉晶炉中，其中，所述凹面镜的镜面朝向熔体液面，所述方法包括：采集所述凹面镜的反射光束在所述熔体液面所形成光斑的第一图像；通过控制石英坩埚的升降以使得所述第一图像中的光斑尺寸最小；当所述光斑尺寸为最小尺寸时，通过计算最小尺寸光斑与所述导流筒底部之间的距离以获得所述熔体液面与所述导流筒底部之间的目标间距。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 监测 体液 位置 方法 系统 计算机 存储 介质 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安奕斯伟硅片技术有限公司;西安奕斯伟材料技术有限公司，未经西安奕斯伟硅片技术有限公司;西安奕斯伟材料技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110129542.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
