[发明专利]一种基于电离层测高仪的扰动观测方法在审

专利信息
申请号: 202110131839.9 申请日: 2021-01-30
公开(公告)号: CN112924963A 公开(公告)日: 2021-06-08
发明(设计)人: 朱正平;蓝加平 申请(专利权)人: 中南民族大学
主分类号: G01S13/88 分类号: G01S13/88;G01S7/41
代理公司: 成都鱼爪智云知识产权代理有限公司 51308 代理人: 王珍
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明提出了一种基于电离层测高仪的扰动观测方法,涉及电离层扰动观测领域。一种基于电离层测高仪的扰动观测方法,包括如下步骤:端口初始化:监控系统时间并判断时间是否到达指定时长;生成数据文件:通过端口写入控制到DDS板和RCVR板,开始扫频;系统启动:启动DDS板产生频率信号、相位编码和双相调制,运行脉冲集,启动MCU、发射编码脉冲;定时采集:一定时间后,停止发射编码脉冲,采集140或170组回波信号,判断脉冲集是否运行完,当运行未完成时进入下一步骤,否则重新进行所述系统启动步骤。能够实现实时获取高精度多普勒频高图,便于对电离层扰动进行观测和分析。
搜索关键词: 一种 基于 电离层 测高仪 扰动 观测 方法
【主权项】:
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