[发明专利]一种半导体制程用光阻清洗剂在审
| 申请号： | 202110134211.4 | 申请日： | 2021-02-01 |
| 公开（公告）号： | CN112698554A | 公开（公告）日： | 2021-04-23 |
| 发明（设计）人： | 刘小勇;田博;房龙翔;叶鑫煌 | 申请（专利权）人： | 福建省佑达环保材料有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 福州元创专利商标代理有限公司 35100 | 代理人： | 俞舟舟;蔡学俊 |
| 地址： | 362800 福建省泉*** | 国省代码： | 福建;35 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明公开了一种半导体制程用光阻清洗剂。所述光阻清洗剂的组成成分包括醇胺化合物、苄胺化合物、醇醚类溶剂、表面活性剂、阻蚀剂和去离子水。该光阻清洗剂对光阻小分子的溶解能力强，具有较高的清除效率，稳定性表现优异，能适合不同工艺温度的要求。极佳的分散性有效避免了被清洗下来的小分子光阻的二次聚集造成二次污染，同时对底层材料有较低的腐蚀速率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 半导体 用光 洗剂 | ||
【主权项】：
暂无信息
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