[发明专利]基于多次反射结构的高功率激光功率测量系统在审
申请号: | 202110137182.7 | 申请日: | 2021-02-01 |
公开(公告)号: | CN112834029A | 公开(公告)日: | 2021-05-25 |
发明(设计)人: | 孙青;林延东;马冲;张云鹏 | 申请(专利权)人: | 中国计量科学研究院 |
主分类号: | G01J1/04 | 分类号: | G01J1/04;G01J1/56 |
代理公司: | 北京轻创知识产权代理有限公司 11212 | 代理人: | 冯瑛琪 |
地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了基于多次反射结构的高功率激光功率测量系统,涉及激光测量技术领域。包括:测量反射镜、测量模块、第一反射镜、第二反射镜和第三反射镜,其中,测量反射镜的非反光面与测量模块的测量端连接,且测量模块的测量方向与测量反射镜的反光面垂直,第三反射镜的反光面与测量反射镜的反光面相对放置,第一反射镜用于改变入射的高功率激光的光路,第二反射镜用于改变出射的高功率激光的光路,使高功率激光经过测量反射镜和第三反射镜的反射后沿入射光路的方向射出。该系统的体积小、重量轻、响应速度快、无需水冷且可在线测量,测量准确度高且稳定性好,且可实现更低的激光功率分辨能力,大大降低测量装置成本。 | ||
搜索关键词: | 基于 多次 反射 结构 功率 激光 测量 系统 | ||
【主权项】:
暂无信息
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