[发明专利]一种高导电性的铜/石墨烯/铜复合材料及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202110137353.6 申请日: 2021-02-01
公开(公告)号: CN112962099A 公开(公告)日: 2021-06-15
发明(设计)人: 巫露 申请(专利权)人: 西南交通大学
主分类号: C23C28/00 分类号: C23C28/00;C23C16/26;C23C16/02;C23C14/35;C23C14/18;C25F3/22;B82Y40/00
代理公司: 成都玖和知识产权代理事务所(普通合伙) 51238 代理人: 胡琳梅
地址: 610000*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种高导电性的铜/石墨烯/铜复合材料及其制备方法,属于复合材料制备技术领域,清洗铜箔,以铜箔作为基体;采用直流电源对铜箔表面进行电化学抛光处理;将抛光后的铜箔高温气相反应,在铜箔表面生长出单层石墨烯;采用磁控溅射法在石墨烯的表面沉积上一层纳米铜膜,制得铜/石墨烯/铜复合材料;本发明提供的高导电性的铜/石墨烯/铜复合材料制备方法操作简单,耗时短,效率高,工艺成本低,可应用于国家电力系统,集成电路等领域。
搜索关键词: 一种 导电性 石墨 复合材料 及其 制备 方法
【主权项】:
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