[发明专利]一种半导体晶圆双膜切割设备在审
申请号: | 202110140995.1 | 申请日: | 2021-02-02 |
公开(公告)号: | CN112885721A | 公开(公告)日: | 2021-06-01 |
发明(设计)人: | 刘青云 | 申请(专利权)人: | 广州兴金五金有限公司 |
主分类号: | H01L21/304 | 分类号: | H01L21/304;H01L21/78;B08B5/02;B08B15/04 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 510665 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种半导体晶圆双膜切割设备,其结构包括切割机构、机体、操作台,操作台嵌固于机体的上端位置,切割机构与机体的后端相焊接,当下伸杆切至晶圆底部的凹槽上,通过重力块对下伸杆施加的压力,能够使下伸杆沿着板面向下滑动伸出,从而使下伸杆能够伸入晶圆凹槽内部,从而使下刀片能够对晶圆凹槽进行切割,有效的避免了切割刀具无法对晶圆存在的凹槽进行切割的情况,通过下刀片在对晶圆凹槽进行切割时会使晶圆粉末向上飘起,从而使收集槽能够对飘起下下落的晶圆粉末进行收集,有效的避免了下刀片在对晶圆凹槽进行切割时产生的晶圆粉末会将晶圆凹槽内壁底部切割出的划痕填满,导致晶圆不容易完整分切的情况。 | ||
搜索关键词: | 一种 半导体 晶圆双膜 切割 设备 | ||
【主权项】:
暂无信息
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造