[发明专利]一种可调控双折射的光纤光栅制备方法及制备装置在审
申请号: | 202110141431.X | 申请日: | 2021-02-02 |
公开(公告)号: | CN112698441A | 公开(公告)日: | 2021-04-23 |
发明(设计)人: | 何俊;王义平;许百杰;徐锡镇 | 申请(专利权)人: | 深圳大学 |
主分类号: | G02B6/02 | 分类号: | G02B6/02 |
代理公司: | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人: | 刘爱珍 |
地址: | 518060 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提供的一种可调控双折射的光纤光栅制备方法以及制备装置,包括以下步骤:步骤S1:将光纤设置在位移平台上;步骤S2:激光经激光整形装置整形处理后聚焦到光纤上某个区域;位移平台带动光纤移动,使激光在光纤上诱导形成折射率调制区域,形成光纤光栅;步骤S3:通过偏振分析解调装置测试光纤光栅的双折射,比较双折射数据的反馈值与预设定目标值之间的差异;步骤S4:如双折射数据的反馈值与预设定目标值之间存在差异,则根据双折射数据的反馈值与预设定目标值之间的差异获得激光整形装置所需要调整参数;根据调整参数对激光整形装置进行调整,执行步骤S2以便实现对光纤光栅双折射的调控。 | ||
搜索关键词: | 一种 调控 双折射 光纤 光栅 制备 方法 装置 | ||
【主权项】:
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