[发明专利]一种制备氮化钛薄膜及其磁控溅射靶材的方法在审
| 申请号： | 202110141709.3 | 申请日： | 2021-02-02 |
| 公开（公告）号： | CN112962058A | 公开（公告）日： | 2021-06-15 |
| 发明（设计）人： | 杨永添;蔡蓁;吴健;许积文 | 申请（专利权）人： | 广州市尤特新材料有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/35;C23C4/10;C23C4/134;C23C4/137 |
| 代理公司： | 广东科信启帆知识产权代理事务所(普通合伙) 44710 | 代理人： | 吴少东 |
| 地址： | 510800 广东省广州*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及磁控溅射靶材加工，属于材料加工领域。一种制备氮化钛薄膜及其磁控溅射靶材的方法，通过对氮化钛粉体的脱氧、氮化处理，在保护气氛中用等离子体热喷涂工艺制备高密度、低氧含量且充分氮化的致密靶材，溅射时其钛和氮的自由原子发射比例恒定，在靶材表面不会形成TiNx等其它氮与钛的化合物，所制备的氮化钛镀膜在时间轴坐标上质量恒定；该种靶材所制备的氮化钛薄膜达到了与Ti靶材和氮气反应溅射的效果，且氮化钛薄膜的缺陷较少，有效提升氮化钛薄膜的质量；且整个制备工艺过程，镀膜中的氮与钛元素成分均来自靶材，工作气体只有氩气，无氮的反应气体存在，不存在氮污染的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 制备 氮化 薄膜 及其 磁控溅射 方法 | ||
【主权项】：
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