[发明专利]一种折反式深紫外光刻物镜系统设计方法有效
| 申请号： | 202110141736.0 | 申请日： | 2021-02-02 |
| 公开（公告）号： | CN112859543B | 公开（公告）日： | 2021-12-14 |
| 发明（设计）人： | 李艳秋;闫旭;郝倩;刘丽辉;刘克 | 申请（专利权）人： | 北京理工大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B27/00;G02B13/22 |
| 代理公司： | 北京理工大学专利中心 11120 | 代理人： | 高会允 |
| 地址： | 100081 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种折反式深紫外光刻物镜系统设计方法。本发明通过分组复合及迭代设计方法进行初始结构的设计，从而快速高效的得到折反射式光刻物镜系统初始结构。物镜系统包括三个子系统：第一镜组G1，第二镜组G2和第三镜组G3。物镜系统设计方法包括如下步骤：根据设计需求设计G1和G3初始结构；设置G1的像面为G2的物面，G2的像面为G3的物面；设置G2，包括相对设置的2片反射镜，通过矩阵光学计算G2的球面初始结构，并对G2的球面初始结构进行分组复合及迭代拟合设计，完成G2镜组初始结构设计。通过后续优化设计，完成高性能折反式光刻物镜系统设计，提高了折反式深紫外光刻物镜系统整体设计效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 反式 深紫 光刻 物镜 系统 设计 方法 | ||
【主权项】：
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