[发明专利]一种溅射靶材的制备装备及其制备方法有效
| 申请号： | 202110142206.8 | 申请日： | 2021-02-02 |
| 公开（公告）号： | CN112962070B | 公开（公告）日： | 2023-02-07 |
| 发明（设计）人： | 邱从章 | 申请（专利权）人： | 邱从章 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;B22D47/00;B22C9/22;B22D27/04;B22D27/11;B22D21/02;B22D46/00;C21D1/26;F27B14/04;F27B14/06;F27B14/08;F27D27/00 |
| 代理公司： | 长沙市融智专利事务所(普通合伙) 43114 | 代理人： | 钟丹;魏娟 |
| 地址： | 410083 湖南*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种溅射靶材的制备装备及其制备方法：包含密闭腔体、熔炼浇注装置、铸造成型装置、气氛处理装置；所述熔炼浇注装置、铸造成型装置位于密闭腔体内；所述气氛处理装置通过管道与密闭腔体相连；向密闭腔体输送保护气氛。通过上述的熔炼装置、浇注成型装置和洁净气氛装置共同作用，在熔炼、搅拌、冷却和成型过程中减少加工环节带来不必要的污染，并为材料制备提供适当的温度、冷速、压力和气氛等良好条件，确保所制备的高纯度材料在整个制备过程能有效控制杂质含量，均匀熔合且可控冷却成型。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 溅射 制备 装备 及其 方法 | ||
【主权项】：
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