[发明专利]基于OpenGL的线型绘制方法、系统及介质在审
| 申请号： | 202110142558.3 | 申请日： | 2021-02-02 |
| 公开（公告）号： | CN112907436A | 公开（公告）日： | 2021-06-04 |
| 发明（设计）人： | 宋斌;杨哲宇 | 申请（专利权）人： | 深圳市显控科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G06T1/20 | 分类号： | G06T1/20;G06T15/00 |
| 代理公司： | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人： | 洪铭福 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明实施例公开了基于OpenGL的线型绘制方法、系统及介质，其中方法包括以下步骤：在CPU端：根据要绘制的线条建立一维整数数组，一维整数数组中每个元素值交替表示为实线长度或空白长度；将一维整数数组转换为一维纹理数组并传送到GPU端；在GPU端：计算要绘制的线条上每个顶点距离起点的距离，记为距离数据；将距离数据以顶点属性方式传入顶点着色器，根据距离数据的顶点属性计算采样距离，并将采样距离传递给片元着色器；根据采样距离，在片元着色器中对生成的一维纹理进行采样并生成片元信息；根据片元信息进行可视化表达。本发明能够对不同图元类型统一使用统一的算法模型。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 opengl 线型 绘制 方法 系统 介质 | ||
【主权项】：
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