[发明专利]半导体装置在审

专利信息
申请号: 202110143538.8 申请日: 2021-02-02
公开(公告)号: CN113206087A 公开(公告)日: 2021-08-03
发明(设计)人: 徐崇威;江国诚;朱龙琨;黄懋霖;余佳霓;王志豪 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/092 分类号: H01L27/092;H01L21/8238
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 黄艳
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 半导体装置与其制作方法。半导体装置包括多个第一半导体层与多个第二半导体层于基板上,第一半导体层彼此分开并沿着实质上垂直于基板的上表面的方向向上堆叠,且第二半导体层彼此分开并沿着实质上垂直于基板的上表面的方向向上堆叠。每一第二半导体层的厚度小于每一第一半导体层的厚度。第一界面层,位于每一第一半导体层周围;第二界面层,位于每一第二半导体层周围;第一偶极栅极介电层,位于每一第一半导体层周围并位于第一界面层上;第二偶极栅极介电层,位于每一第二半导体层周围并位于第二界面层上;第一栅极,位于每一第一半导体层周围并位于第一偶极栅极介电层上;以及第二栅极,位于每一第二半导体层周围并位于第二偶极栅极介电层上。
搜索关键词: 半导体 装置
【主权项】:
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