[发明专利]一种用于化学机械抛光的柔性膜、承载头及抛光设备有效

专利信息
申请号: 202110146754.8 申请日: 2021-02-03
公开(公告)号: CN112847127B 公开(公告)日: 2023-05-16
发明(设计)人: 赵德文;王宇;路新春 申请(专利权)人: 华海清科股份有限公司
主分类号: B24B37/30 分类号: B24B37/30
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 300350 天津市津*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明公开了一种用于化学机械抛光的柔性膜、承载头及抛光设备,所述柔性膜包括用于接收基板的底板部;圆环状的边缘侧壁,该边缘侧壁具有沿所述底板部的周缘向上延伸形成的直立部、设置于所述直立部上侧的弯折部,从所述弯折部上端向内侧水平延伸形成的第一水平延伸部;以及与所述边缘侧壁同心相邻设置的内侧壁,所述内侧壁在其顶端具有弯向内侧水平延伸的第二水平延伸部;所述弯折部包括从直立部上端朝上向内折弯延伸的第一弯折部和自所述第一弯折部朝上向外折弯延伸的第二弯折部,所述第一弯折部与水平面的夹角不等于所述第二弯折部与水平面的夹角。
搜索关键词: 一种 用于 化学 机械抛光 柔性 承载 抛光 设备
【主权项】:
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