[发明专利]保持磁流变抛光液抛光效率的方法、稳定剂及其制备方法在审
| 申请号： | 202110147742.7 | 申请日： | 2021-02-03 |
| 公开（公告）号： | CN112980333A | 公开（公告）日： | 2021-06-18 |
| 发明（设计）人： | 李晓媛;叶敏恒;叶作彦;董会;王利利;田东;刘佳保;王超 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院机械制造工艺研究所 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;B24B1/00 |
| 代理公司： | 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 | 代理人： | 张严芳 |
| 地址： | 621000*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了保持磁流变抛光液抛光效率的方法、稳定剂及其制备方法，解决了现有的磁流变抛光液的抛光效率稳定性较差，无法满足长时间的使用要求的技术问题。本发明的稳定剂由磨粒、润湿剂、分散剂、抗氧化剂和水组成，各组分的质量百分比为：磨粒：12％‑30％，润湿剂：0.5％‑5％，分散剂：0.05％‑5％，抗氧化剂：0.2％‑3％，水：余量。本发明具有稳定剂加入后磁流变抛光液的抛光效率稳定，满足长时间使用等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 保持 流变 抛光 效率 方法 稳定剂 及其 制备 | ||
【主权项】：
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