[发明专利]一种在铜表面制造长期高效减反微纳结构的方法及应用有效
| 申请号： | 202110150007.1 | 申请日： | 2021-02-03 |
| 公开（公告）号： | CN112959005B | 公开（公告）日： | 2023-01-24 |
| 发明（设计）人： | 程光华;娄睿;张国栋;王江 | 申请（专利权）人： | 西北工业大学 |
| 主分类号： | B23P15/00 | 分类号： | B23P15/00;B23K26/352;C23C14/35;C23C14/10 |
| 代理公司： | 西安毅联专利代理有限公司 61225 | 代理人： | 师玮 |
| 地址： | 710000 陕西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明属于高导热介质技术领域，公开了一种在铜表面制造长期高效减反微纳结构的方法，包括：将紫铜和/或铜单质样品进行抛光处理；将抛光后样品置于激光加工平台，使用脉冲激光对其进行预设的路径扫描，获得具有微纳复合结构的样品表面，将其封装进真空袋中；将得到的样品置于磁控溅射设备的样品炉内，在微纳结构表面生长一层二氧化硅保护膜，获得长期高效的长期高效减反微纳结构。本发明在铜表面制备出具有减反特性的微纳结构，其后通过镀膜的方法在微纳结构表面生长一层惰性薄膜进行保护，使其具备长期高效的减反功能特性；通过控制磁控溅射的镀膜时间，灵活控制二氧化硅保护层的厚度，提供强度性能的保护层，有效解决铜表面减反结构失效问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 表面 制造 长期 高效 减反微纳 结构 方法 应用 | ||
【主权项】：
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