[发明专利]一种单相结构(CrZrVTiAl)N高熵陶瓷涂层及其制备方法有效
| 申请号： | 202110155002.8 | 申请日： | 2021-02-04 |
| 公开（公告）号： | CN112981321B | 公开（公告）日： | 2022-08-30 |
| 发明（设计）人： | 刘晓红;李红轩;许文举;吉利;周惠娣;陈建敏 | 申请（专利权）人： | 中国科学院兰州化学物理研究所 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/32;C23C14/02;C23C14/54;C22C30/00 |
| 代理公司： | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人： | 赵琪 |
| 地址： | 730000 甘*** | 国省代码： | 甘肃;62 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种单相结构(CrZrVTiAl)N高熵陶瓷涂层及其制备方法，涉及表面涂层技术领域。本发明提供的单相结构(CrZrVTiAl)N高熵陶瓷涂层，具有面心立方晶格单一晶型结构；所述单相结构(CrZrVTiAl)N高熵陶瓷涂层中Cr、Zr、V、Ti、Al为等摩尔比或接近等摩尔比；所述Cr、Zr、V、Ti、Al的摩尔分数独立地为8～20％。本发明提供的单相结构(CrZrVTiAl)N高熵陶瓷涂层具有高硬度、高结合力和优异耐磨性能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 单相 结构 crzrvtial 陶瓷 涂层 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院兰州化学物理研究所，未经中国科学院兰州化学物理研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110155002.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
