[发明专利]一种紧凑型无掩模光刻系统及其曝光方法在审
| 申请号： | 202110155435.3 | 申请日： | 2021-02-04 |
| 公开（公告）号： | CN112965340A | 公开（公告）日： | 2021-06-15 |
| 发明（设计）人： | 李春;周思瀚;张思琪;兰长勇 | 申请（专利权）人： | 电子科技大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 成都虹盛汇泉专利代理有限公司 51268 | 代理人： | 王伟 |
| 地址： | 611731 四川省成*** | 国省代码： | 四川;51 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开一种紧凑型无掩模光刻系统及其曝光方法，应用于无掩模数字光刻领域，针对现有技术存在的光路折叠导致紫外光能量急剧缩减的问题，本发明将紫光与红光集成在同一个平面，保证紫光与红光形成同轴光源，红光用作照明以及曝光图形对准，紫光用于曝光分布与光轴四周，解决了目前无掩模光刻系统中，结构复杂、所用元件过多导致光刻系统体积过大的问题；因光路复杂引发的光能利用率低而导致的光刻系统光刻效率低下的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 紧凑型 无掩模 光刻 系统 及其 曝光 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于电子科技大学，未经电子科技大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110155435.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
