[发明专利]一种双滚转跟踪去耦控制方法及系统有效
| 申请号： | 202110157182.3 | 申请日： | 2021-02-04 |
| 公开（公告）号： | CN112946879B | 公开（公告）日： | 2023-02-03 |
| 发明（设计）人： | 张巍巍;印剑飞;吴昊;杨波;曹熙卿 | 申请（专利权）人： | 上海航天控制技术研究所 |
| 主分类号： | G02B27/00 | 分类号： | G02B27/00;G02B7/18 |
| 代理公司： | 中国航天科技专利中心 11009 | 代理人： | 褚鹏蛟 |
| 地址： | 201109 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种双滚转跟踪去耦控制方法，步骤如下：S1计算弹体相对于惯性空间的旋转角速度在惯性系的投影；S2计算弹体相对于惯性空间的旋转角速度在弹体系的投影；S3计算弹体相对于惯性空间的旋转角速度在成像系统系的投影；S4将该速度作为负反馈，闭环到双滚转控制回路中，抵消弹体摆动引起的光轴晃动，实现去耦。利用惯组测量的弹体姿态信息进行去耦解算，无需成像系统内部安装惯性测量元件。相对于框架式产品，双滚转结构上不需要安装速率陀螺等测量元件，既减轻了重量，也减小了制造成本，满足现代产品小型化设计需求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 双滚转 跟踪 控制 方法 系统 | ||
【主权项】：
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