[发明专利]一种免胶式晶圆贴膜工艺在审
申请号: | 202110158493.1 | 申请日: | 2021-02-05 |
公开(公告)号: | CN112967994A | 公开(公告)日: | 2021-06-15 |
发明(设计)人: | 姜黎平 | 申请(专利权)人: | 姜黎平 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 044200 山*** | 国省代码: | 山西;14 |
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摘要: | 本发明公开了一种免胶式晶圆贴膜工艺,属于半导体领域,一种免胶式晶圆贴膜工艺,包括晶圆模板和晶圆本体,晶圆模板的上表面开设有环形凹槽,晶圆本体放置于晶圆模板的内部,本方案通过免胶膜来替代传统的胶水膜以保护晶圆的正面,有效降低晶圆被污染的风险,免胶膜利用负压原理吸附在晶圆上,通过辊轮的滚压使挤压腔向外排出空气以降低其内部的气压,并通过吸附加强膜来增吸附力,有效提高免胶膜的稳定性,它还利用还原铁粉消耗氧气的特性来降低挤压腔内的气压,进一步加强吸附力,通过充气膨胀的方式将免胶膜的侧边固定住,提高稳定性的同时也方便去膜,且由于免胶膜无胶水,因此可重复使用,有效节约了资源。 | ||
搜索关键词: | 一种 免胶式晶圆贴膜 工艺 | ||
【主权项】:
暂无信息
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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