[发明专利]一种免胶式晶圆贴膜工艺在审

专利信息
申请号: 202110158493.1 申请日: 2021-02-05
公开(公告)号: CN112967994A 公开(公告)日: 2021-06-15
发明(设计)人: 姜黎平 申请(专利权)人: 姜黎平
主分类号: H01L21/683 分类号: H01L21/683
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 044200 山*** 国省代码: 山西;14
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摘要: 发明公开了一种免胶式晶圆贴膜工艺,属于半导体领域,一种免胶式晶圆贴膜工艺,包括晶圆模板和晶圆本体,晶圆模板的上表面开设有环形凹槽,晶圆本体放置于晶圆模板的内部,本方案通过免胶膜来替代传统的胶水膜以保护晶圆的正面,有效降低晶圆被污染的风险,免胶膜利用负压原理吸附在晶圆上,通过辊轮的滚压使挤压腔向外排出空气以降低其内部的气压,并通过吸附加强膜来增吸附力,有效提高免胶膜的稳定性,它还利用还原铁粉消耗氧气的特性来降低挤压腔内的气压,进一步加强吸附力,通过充气膨胀的方式将免胶膜的侧边固定住,提高稳定性的同时也方便去膜,且由于免胶膜无胶水,因此可重复使用,有效节约了资源。
搜索关键词: 一种 免胶式晶圆贴膜 工艺
【主权项】:
暂无信息
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