[发明专利]倍频单片、GaN太赫兹二极管及其制备方法在审
申请号: | 202110160011.6 | 申请日: | 2021-02-05 |
公开(公告)号: | CN112993042A | 公开(公告)日: | 2021-06-18 |
发明(设计)人: | 梁士雄;吕元杰;宋旭波;顾国栋;王元刚;郭红雨;张立森;冯志红 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第十三研究所 |
主分类号: | H01L29/861 | 分类号: | H01L29/861;H01L29/207;H01L23/373;H01L23/367;H01L21/329 |
代理公司: | 石家庄国为知识产权事务所 13120 | 代理人: | 柳萌 |
地址: | 050051 *** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | 本发明提供了一种倍频单片、GaN太赫兹二极管及其制备方法,属于半导体器件技术领域,GaN太赫兹二极管包括N面上外延生长有氮化铝中间层的外延GaN层、外延生长于氮化铝中间层上的金刚石衬底层、依次外延生长于外延GaN层的Ga面上的高掺杂N型GaN层和低掺杂N型GaN层,以及欧姆接触电极和肖特基接触电极。本发明提供的GaN太赫兹二极管采用金刚石衬底层作为器件衬底结构,能够提高GaN太赫兹二极管的散热性能,降低器件内部结温和内部寄生电容,提升GaN太赫兹二极管的耐功率水平。本发明提供的倍频单片采用了上述GaN太赫兹二极管。 | ||
搜索关键词: | 倍频 单片 gan 赫兹 二极管 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
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