[发明专利]一种基于Mo掺杂TaN的光催化薄膜的制备方法及其产品和应用有效
申请号: | 202110161969.7 | 申请日: | 2021-02-05 |
公开(公告)号: | CN112981344B | 公开(公告)日: | 2022-01-04 |
发明(设计)人: | 顾明道;李兴鳌;杜明;张健 | 申请(专利权)人: | 江苏镕耀新材料有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/06;C23C14/54;C02F1/30;C02F101/30 |
代理公司: | 北京东方盛凡知识产权代理事务所(普通合伙) 11562 | 代理人: | 张雪 |
地址: | 210023 江苏省南京市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及光催化薄膜材料技术领域,具体涉及一种基于Mo掺杂TaN的光催化薄膜的制备方法及其产品和应用;具体的以氩气作为溅射气体,氮气作为反应气体,采用双靶共溅射的方法在衬底表面制备基于Mo掺杂TaN的光催化薄膜,所述双靶分别为钽靶和钼靶;本发明提供一种基于Mo掺杂TaN的光催化薄膜的制备方法。首次将TaN薄膜应用于光催化领域,通过磁控溅射真空镀膜技术,选择Mo作为掺杂剂来改善TaN薄膜光催化性能从而改善薄膜的光吸收性能和薄膜内载流子迁移特性,提高光催化性能。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 mo 掺杂 tan 光催化 薄膜 制备 方法 及其 产品 应用 | ||
【主权项】:
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