[发明专利]一种制备蛾眼减反结构的方法在审
申请号: | 202110162968.4 | 申请日: | 2021-02-05 |
公开(公告)号: | CN112978674A | 公开(公告)日: | 2021-06-18 |
发明(设计)人: | 张琬皎;龙眈 | 申请(专利权)人: | 杭州欧光芯科技有限公司 |
主分类号: | B81B7/04 | 分类号: | B81B7/04;B81C1/00;G02B1/118 |
代理公司: | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人: | 林超 |
地址: | 311200 浙江省杭州市大江东产业*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种制备蛾眼减反结构的工艺方法。方法包括:在原始硅模具的表面制备纳米柱阵列;具有纳米柱阵列的PDMS软模板的制备;在基片上制备第一金属层;在第一金属层上制备图形转移层,将PDMS软模板图形复制转移到图形转移层的表面,并得到若干个纳米柱;纳米柱阵列结构表面修饰;半球形曲面掩膜的刻蚀和成蛾眼减反结构的刻蚀。本发明通过纳米压印将纳米圆柱结构转移到基片表面并转化加工得到弧形曲面掩膜,最终在基片刻蚀得到蛾眼减反结构,避免了电子束/光学光刻—刻蚀、自组装法等制备蛾眼减反结构慢、昂贵、工艺复杂,自组装法不可控、不能大面积批量制备的技术缺点,以较低的成本实现了蛾眼减反结构高效、可控、批量的制备。 | ||
搜索关键词: | 一种 制备 蛾眼减反 结构 方法 | ||
【主权项】:
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