[发明专利]一种基于掺钛氧化铌的1S1R器件及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202110170101.3 申请日: 2021-02-03
公开(公告)号: CN113066927B 公开(公告)日: 2023-04-07
发明(设计)人: 王浩;余志颖;季杰;檀秋阳;潘希彦;马国坤;饶毅恒;万厚钊;桃李;彭小牛;段金霞;汪汉斌;汪宝元 申请(专利权)人: 湖北大学
主分类号: H10N70/20 分类号: H10N70/20;H10B63/00
代理公司: 北京金智普华知识产权代理有限公司 11401 代理人: 张文俊
地址: 430062 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明提供了一种基于掺钛氧化铌的1S1R器件及其制备方法,该器件包括:底电极;转换层;阻变层;顶电极;转换层为钛掺杂的氧化铌。本申请的器件,转换层为钛掺杂的氧化铌,基于该材料制得的选通管有操作电压十分稳定、抗高脉冲电流等优点;阻变层采用氮化硅薄膜,由于氮化物的存在使得氧空位移动受到限制,使得氧空位更为可控。本申请采用掺钛氧化铌作为选通管功能层和氮化硅薄膜作为阻变层,使制得的1S1R器件具有稳定的SET电压、RESET电压、负极性阈值电压和正极性保持电压等相关操作电压,明显的存储窗口和选通比(非线性值),在直流耐受性测试中表现出较强的稳定性,因此能够有效地减小漏电流,有一定的抗串扰能力。
搜索关键词: 一种 基于 氧化 s1r 器件 及其 制备 方法
【主权项】:
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