[发明专利]一种基于无接触式等曲率弧形套爪的无磁高均匀度温控结构有效

专利信息
申请号: 202110171983.5 申请日: 2021-02-08
公开(公告)号: CN112985630B 公开(公告)日: 2023-02-24
发明(设计)人: 雷旭升;张帅;邵琦;蔡泽;全伟;刘刚 申请(专利权)人: 北京航空航天大学
主分类号: G01K7/22 分类号: G01K7/22
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100191*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种基于无接触式等曲率弧形套爪的无磁高均匀度温控结构,用于原子自旋惯性测量系统的气室温控系统,包括原子气室、高均匀度无磁烤箱和分布式无磁加热膜;原子气室由气室球和气室柄构成,利用抽运光维持原子的工作状态,实现气室内原子气体极化操控和测量;高均匀度无磁烤箱由烤箱固定件和烤箱气室座构成;分布式无磁加热膜由一体式基底、定位基准孔、无磁加热丝和独立焊盘构成,采用正反双层叠加无磁的加热丝的方式进行高密度S形反向平行布线,加热丝分成上下两部分,在保证无接触式等曲率弧形套爪高均匀加热的同时,实现驱动电流产生的磁场的精确抑制。无磁高均匀度温控结构有效抑制气室抽运光孔的空气对流散热引起的气室梯度,提高电加热系统中残余磁场抑制精度,实现气室内部温度梯度不大于0.5K的高精准测控。
搜索关键词: 一种 基于 接触 曲率 弧形 无磁高 均匀 温控 结构
【主权项】:
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