[发明专利]厚膜抗蚀剂膜形成用抗蚀剂组合物、厚膜抗蚀剂层叠体以及抗蚀剂图案形成方法在审
| 申请号： | 202110172216.6 | 申请日： | 2021-02-08 |
| 公开（公告）号： | CN113281963A | 公开（公告）日： | 2021-08-20 |
| 发明（设计）人： | 赵恩率;大野庆晃;柳大喆 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/027;G03F7/09;G03F7/00 |
| 代理公司： | 上海立群专利代理事务所(普通合伙) 31291 | 代理人： | 陈亦欧;毛立群 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明涉及一种抗蚀剂组合物，含有：对显影液的溶解性因酸的作用而变化的基材成分(A)、通过曝光产生酸的产酸剂成分(B)、酸扩散控制剂成分(D)、以及以式(e‑1)表示的含乙烯基化合物(E)，所述基材成分(A)的质均分子量为8000～18000，固体成分浓度为25质量％以上(式中，R |
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| 搜索关键词： | 厚膜抗蚀剂膜 形成 用抗蚀剂 组合 厚膜抗蚀剂 层叠 以及 抗蚀剂 图案 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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