[发明专利]一种硅基横向PiN二极管的制备方法、器件及高集成隐身天线在审
申请号: | 202110177183.4 | 申请日: | 2021-02-07 |
公开(公告)号: | CN112993053A | 公开(公告)日: | 2021-06-18 |
发明(设计)人: | 苏汉;蔡艳军 | 申请(专利权)人: | 中国人民武装警察部队工程大学 |
主分类号: | H01L29/868 | 分类号: | H01L29/868;H01L21/329;H01L23/66;H01Q1/36;H01Q23/00 |
代理公司: | 西安铭泽知识产权代理事务所(普通合伙) 61223 | 代理人: | 姬莉 |
地址: | 710086 陕西*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明涉及一种硅基横向Pi N二极管的制备方法、器件及高集成隐身天线,制备方法包括:选取GeOI衬底,并在GeOI衬底内掺杂形成顶层GeSn区;在衬底顶层GeSn区内设置深槽隔离区;刻蚀GeSn区形成P型沟槽和N型沟槽,P型沟槽和N型沟槽的深度小于顶层GeSn区的厚度;在P型沟槽和N型沟槽内生成多晶GaAs层,采用离子注入形成P型有源区和N型有源区;在衬底上形成GeSn合金引线,完成具有GaAs‑GeSn‑GaAs异质结构的硅基横向P i N二极管的制备。本发明通过动态控制顶层Ge中Sn的含量及引入GeSn合金引线能制备具有GaAs‑GeSn‑GaAs异质结构的硅基横向Pi N二极管,以便制作高集成隐身天线。 | ||
搜索关键词: | 一种 横向 pin 二极管 制备 方法 器件 集成 隐身 天线 | ||
【主权项】:
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