[发明专利]半导体器件、存储器单元及其制造方法在审

专利信息
申请号: 202110182089.8 申请日: 2021-02-09
公开(公告)号: CN113257818A 公开(公告)日: 2021-08-13
发明(设计)人: 张盟昇;黄家恩;邱奕勋;王奕 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/11 分类号: H01L27/11;H01L21/8244
代理公司: 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 代理人: 章社杲;李伟
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明的实施例公开了一种半导体器件、存储器单元及其制造方法。存储器单元包括第一晶体管。第一晶体管包括第一传导通道,第一传导通道由沿垂直方向彼此间隔开的一个或多个第一纳米结构共同构成。存储器单元包括与第一晶体管串联电耦合的第二晶体管。第二晶体管包括第二传导通道,第二传导通道由沿垂直方向彼此间隔开的一个或多个第二纳米结构共同构成。一个或多个第一纳米结构中的至少一个通过沿垂直方向延伸到第一晶体管的第一漏极/源极区中的第一金属结构被施加第一应力。
搜索关键词: 半导体器件 存储器 单元 及其 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
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