[发明专利]集成电路器件、生成集成电路布局图的方法及系统在审
| 申请号： | 202110184515.1 | 申请日： | 2021-02-10 |
| 公开（公告）号： | CN113312869A | 公开（公告）日： | 2021-08-27 |
| 发明（设计）人： | 赖柏嘉;郭明璋;高章瑞;张玮玲;陈维仁;庄惠中;斯帝芬·鲁苏;鲁立忠 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G06F30/392 | 分类号： | G06F30/392;H01L27/092 |
| 代理公司： | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人： | 章社杲;李伟 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本申请的实施例涉及集成电路器件、生成集成电路布局图的方法及系统。该方法包括将相邻的第一至第四有源区域定位在IC布局图的单元中，第一有源区域是n型或p型的第一类型，并且对应于第一鳍总数，第二有源区域是n型或p型的第二类型，并且对应于第二鳍总数，第三有源区域是第二类型并且对应于第三鳍总数，以及第四有源区域是第一类型并且对应于第四鳍总数。第一和第二鳍总数中的每个大于第三和第四鳍总数中的每个，并且定位第一、第二、第三或第四有源区域中的至少一个由处理器执行。 | ||
| 搜索关键词： | 集成电路 器件 生成 布局 方法 系统 | ||
【主权项】：
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